बंद-लूप शीतलन प्रणाली के जल खपत
Jun 30, 2026
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एकटा बंद-लूप शीतलन प्रणाली मे दू स्वतंत्र जल सर्किट होयत छै: एकटा सीलबंद आंतरिक प्रक्रिया परिसंचरण सर्किट आ एकटा बाहरी स्प्रे परिसंचरण सर्किट. दूनू सर्किट के पानिक खपत आ नुकसान पूर्ण रूप सं अलग अछि.
कुल पानी कें मांग दू भागक कें कवर करयत छै: जल कें मात्रा कें रखएय वाला स्थिर प्रणाली आ दैनिक संचालन कें लेल मेकअप पानी. पारंपरिक खुला शीतलन टावरक कें तुलना मे, इ उत्कृष्ट जल-बचत प्रदर्शन प्रदान करयत छै आ नब ऊर्जा, रासायनिक उद्योग, परिशुद्धता निर्माण आ डाटा सेंटर कें लेल मुख्यधारा कें शीतलन समाधान कें रूप मे काज करयत छै.
I. कुल स्थिर धारण जल आयतन (एक-समय भरने आयतन)
स्थिर जल आयतन कें मतलब छै प्रारंभिक कमीशनिंग या प्रमुख ओवरहाल कें बाद पूर्ण जल निकासी कें दौरान भरय वाला कुल पानी, जे आंतरिक प्रक्रिया जल आ बाहरी स्प्रे पानी सं बनल छै.
सीलबंद आंतरिक प्रक्रिया परिसंचरण जल
इ सर्किट पूरा तरह सं कॉइल, पाइपलाइन, हीट एक्सचेंजर आ बफर वाटर टैंक कें भीतर हवा कें संपर्क मे आवय कें बिना बंद कैल जायत छै, जेकर परिणामस्वरूप संचालन कें दौरान प्राकृतिक जल कें नगण्य नुकसान होयत छै. गणना सूत्र : १.प्रक्रिया जल आयतन=पाइपलाइन आयतन + कुंडली आयतन + बफर टैंक आयतन मानक औद्योगिक कार्य परिस्थितिक मे, स्थिर होल्डिंग आयतन प्रक्रिया परिसंचरण प्रवाह कें प्रति 100 m3/h लगभग 8–12 m3 तक पहुंच जायत छै. 50 मी3/घंटा सं कम प्रवाह वाला छोट इकाइयक मे 3-6 मी3 पानि राखल जायत छै.
ऊर्जा भंडारण आ 1,000 m3/h सं बेसि प्रवाह वाला रासायनिक प्रक्रियाक कें लेल पैघ बंद-लूप प्रणालीक कें लेल एक-समय भरय कें लेल सैकड़ों घन मीटर तइक कें आवश्यकता होयत छै. नरम पानी, शुद्ध पानी या एथिलीन ग्लाइकोल जलीय घोल कें आमतौर पर परिसंचारी माध्यम कें रूप मे अपनाएल जायत छै. प्रारंभिक भरय कें बाद रिसाव कें लेल केवल छोट मात्रा मे माध्यम कें पूरक बनावा कें जरूरत छै, आ पैघ-पैमाना पर मध्यम कें बदलनाय साल भर अनावश्यक छै.
बाहरी स्प्रे परिसंचरण जल
स्प्रे पानी वाष्पीकरणीय ताप आदान-प्रदान कें लेल सीलबंद कुंडल कें बाहरी सतह पर बहय छै आ कूलिंग टावर कें निचला पानी कें समप मे संग्रहित कैल जायत छै. एकरऽ स्थिर आयतन केवल प्रक्रिया परिसंचरण प्रवाह केरऽ २०%–५०% हिस्सा छै । 500 m3/h बंद-लूप प्रक्रिया शीतलन प्रणाली कें उदाहरण कें रूप मे ली: स्प्रे परिसंचरण प्रवाह 100 सं 250 m3/h कें बीच होयत छै, जखन कि समप मे स्थिर होल्डिंग पानी महज 5-15 m3 छै, जे एकहि विनिर्देश कें खुला शीतलन टावरक कें जल बेसिन मे संग्रहीत सैकड़ों घन मीटर सं कहीं कम छै.
पूर्ण बंद-लूप प्रणाली कें कुल एक-बार भरय कें आयतन समान ताप अपव्यय क्षमता वाला खुला प्रणाली कें मात्र 30%–50% छै, जे प्रारंभिक जल उपयोग मे काफी कटौती करय छै.
II. दैनिक संचालन मे मेकअप जल खपत (निरंतर जल हानि के मूल स्रोत)
बंद-लूप प्रणालीक कें दैनिक पानी कें नुकसान केवल बाहरी स्प्रे सर्किट मे होयत छै, जखन कि आंतरिक परिसंचरण कें नुकसान कें अनदेखी कैल जा सकय छै. कुल मेकअप जल आयतन मे वाष्पीकरण हानि, बहाव हानि आ ब्लोडाउन हानि शामिल अछि ।सामान्य सूत्र: घंटावार मेकअप जल मात्रा=वाष्पीकरण हानि + बहाव हानि + ब्लोडाउन हानि
वाष्पीकरण हानि (कुल हानि के 70%–80%, प्राथमिक जल उपभोक्ता)
स्प्रे पानी के वाष्पीकरण के माध्यम स॑ गर्मी हटाय देलऽ जाय छै, आरू तापमान के अंतर सीधा वाष्पीकरण क्षमता क॑ निर्धारित करै छै । औद्योगिक अनुभवजन्य मानक: जखन इनलेट आ आउटलेट स्प्रे पानी कें बीच तापमान कें अंतर 5 डिग्री होयत छै, तखन वाष्पीकरण कें नुकसान कुल स्प्रे परिसंचरण प्रवाह कें 0.54% कें बराबर होयत छै.सटीक गणना सूत्र: WE=Δt×L×4.1868÷2520 जहाँ स्प्रे पानी के Δt=तापमान अंतर;
एल=घंटावार स्प्रे प्रवाह दर। जेना कि 200 मी3/घंटा कें स्प्रे प्रवाह आ 5 डिग्री तापमान अंतर कें साथ, घंटावार वाष्पीकरण कें नुकसान लगभग 1.08 मी3 पर पहुंच जायत छै.
गर्म गर्मी मे बढ़ैत गीला-बल्ब तापमान मे वाष्पीकरण हानि किछु बढ़ि कए स्प्रे प्रवाहक 0.6%–0.8% भ जाइत अछि ।
बहाव हानि
उच्च-दक्षता वाला जल उन्मूलनक जल धुंध कें रोकय छै, जे बंद-लूप प्रणालीक कें लेल अत्यंत कम बहाव हानि कें कारण बनय छै, जे स्प्रे जल आयतन कें मात्र 0.001%–0.1% छै. प्रीमियम उपकरण 0.05% सं कम बहाव कें नुकसान कें नियंत्रित कयर सकय छै, जे लगभग कोनों पानी कें बोझ नहि पैदा करय छै, जे 2%–3% बहाव हानि वाला खुला टावर सं काफी बेहतर छै.
ब्लोडाउन पतलापन हानि
लवण स्प्रे पानी मे लंबा-कालिक वाष्पीकरण कें बाद जमा भ जायत छै, अइ कें लेल एकाग्रता चक्र कें नियंत्रित करय कें लेल नियमित रूप सं ब्लोडाउन कें आवश्यकता होयत छै, जइ मे मानक सांद्रता चक्र 3 सं 5 तइक होयत छै.
गणना सूत्र: ब्लोडाउन आयतन=वाष्पीकरण हानि ÷ (सांद्रता चक्र − 1) बंद-लूप प्रणाली मे स्प्रे पानी कें एकटा छोट आधार आयतन कें विशेषता छै, जेकर परिणामस्वरूप कम ब्लोडाउन आवृत्ति आ सीमित डिस्चार्ज आयतन होयत छै. कठोर जल गुणवत्ता प्रबंधन वाला सिस्टम ब्लोडाउन अंतराल कें बढ़ा सकय छै आ मेकअप पानी कें मांग कें आ बेसि कम कयर सकय छै.
तीनू प्रकार कें नुकसान कें मिला क, मानक कार्य परिस्थितिक मे, बंद-लूप प्रणालीक कें कुल घंटा मेकअप पानी केवल स्प्रे परिसंचरण प्रवाह कें 0.5%–1.5% हिस्सा छै. मुख्य प्रक्रिया परिसंचरण प्रवाह मे बदलल गेलय, समग्र रूप सं जल खपत समान विनिर्देशक कें खुला शीतलन टावरक कें मात्र 10%–20% छै.
500 m3/h बंद-लूप प्रक्रिया शीतलन प्रणाली कें आधार पर तुलना: खुला टावरक कें लेल 10-15 m3 मेकअप पानी कें आवश्यकता प्रति घंटा होयत छै, जखन कि बंद-लूप प्रणाली मे केवल 0.5–1.5 m3 प्रति घंटा कें खपत होयत छै. 20-घंटा कें लगातार दैनिक संचालन कें लेल, 170 टन सं बेसि पानी कें बचत कैल जा सकय छै, जे 50,000 टन सं बेसि वार्षिक जल बचत कें बराबर छै, जे जल कें कमी वाला क्षेत्रक मे जल कोटा कें दबाव कें काफी कम करयत छै.
तृतीय। बंद-लूप सिस्टम जल खपत कें प्रभावित करय वाला प्रमुख चर
गर्मी के भार आरू परिवेश के गीला-बल्ब के तापमान: गर्म आरू नम गर्मी के परिस्थिति म॑ वाष्पीकरण के नुकसान म॑ 20%–30% के उछाल होय छै । कम-तापमान वाला जाड़ा मे, शून्य मेकअप पानी कें खपत प्राप्त करय कें लेल स्प्रे बंद करय कें साथ सूखा शीतलन मोड कें सक्रिय कैल जा सकय छै.
उपकरण संरचना: व्यापक रूप सं अंतराल पर बनल कुंडली आ उच्च-घनत्व वाला जल समाप्त करय वाला बहाव कें नुकसान कें कटौती करय छै, जखन कि पैघ-क्षमता वाला समप अक्सर मेकअप रिफिलिंग कें कम करय छै.
जल कें गुणवत्ता प्रबंधन: नरम स्प्रे जल कें अपनाएय सं एकाग्रता चक्र बढ़एयत छै आ ब्लोडाउन-संबंधित जल अपशिष्ट कम भ जायत छै.
सिस्टम कें जकड़न : आंतरिक परिसंचरण पाइपलाइन आ वाल्व कें रिसाव सं शुद्ध पानी मेकअप कें मात्रा मे किछु वृद्धि भ जायत छै. नियमित निरीक्षण 0.05% सं कम रिसाव कें नुकसान कें सीमित कयर सकय छै.
IV. औद्योगिक अनुप्रयोगों में व्यावहारिक जल खपत के मामले |
डाटा सेंटर आ ऊर्जा भंडारण कें लेल 800 m3/h बंद-लूप शीतलन प्रणाली: कुल स्थिर भरने कें मात्रा 90 m3 कें आसपास; उच्च गर्मी के तापमान के तहत 1.2-1.8 m3 के घंटावार मेकअप पानी, जाड़ा के सूखी शीतलन मोड में शून्य मेकअप पानी |
रासायनिक क्रिस्टलीकरण शीतलन कें लेल 400 m3/h बंद-लूप इकाई: 45 m3 कें स्थिर भरय कें आयतन, 0.6–1.0 m3 कें औसत घंटा मेकअप पानी पूरा साल.
दीर्घकालीन-चमकालीन संचालन कें दौरान, बंद-लूप शीतलन प्रणाली दोहरी पानी-बचत मेरिट प्रदान करयत छै: कम एक-समय भरय कें मात्रा आ न्यूनतम लगातार मेकअप पानी कें मांग. एम्हर, आंतरिक प्रक्रिया परिसंचरण जल बिना बार-बार मध्यम बदलने कें विस्तारित अवधि तइक साफ रहय छै, जे स्रोत सं जल संसाधनक कें खपत आ जल उपचार लागत मे कटौती करय छै, आ औद्योगिक जल संरक्षण आ उत्सर्जन कम करय कें नीतियक कें पालन करय छै.
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